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TF1000-200HV-T10

產(chǎn)品類別：TF真空管式爐

產(chǎn)品簡介：
該設(shè)備主要用于半導(dǎo)體芯片、集成電路芯片、探測器芯片、激光器芯片、金屬濺射薄膜壓敏芯片、紅外成像芯片、非制冷紅外熱成像芯片、氣體傳感器芯片、半導(dǎo)體電容式指紋辨識芯片、功率半導(dǎo)體器件、高性能硅基輻射探測器的高真空低溫封裝工藝。

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詳細(xì)介紹

額定溫度：1200℃

工作尺寸：200*400mm

真空度：6*10-5Pa

該設(shè)備主要用于半導(dǎo)體芯片、集成電路芯片、探測器芯片、激光器芯片、金屬濺射薄膜壓敏芯片、紅外成像芯片、非制冷紅外熱成像芯片、氣體傳感器芯片、半導(dǎo)體電容式指紋辨識芯片、功率半導(dǎo)體器件、高性能硅基輻射探測器的高真空低溫封裝工藝。

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